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气相二氧化硅

气相二氧化硅(AerosilR202 (SiO2))

CAS:

化学式: SiO2

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  3. 气相二氧化硅
中文名 气相二氧化硅
英文名 AerosilR202 (SiO2)
别名 气相二氧化硅
英文别名 AerosilR202 (SiO2)
化学式 SiO2
分子量 60.08
熔点 >1600℃
沸点 2230℃
存储条件 Room Temprature
敏感性 Easily absorbing moisture
外观 白色晶状体
MDL号 MFCD00011232
下游产品 乳化硅油

气相二氧化硅 - 介绍

具有令人感兴趣的增稠性、触变性以及巨大的外表面积。
最后更新:2022-10-16 17:30:54

气相二氧化硅 - 用途与合成方法

气相二氧化硅是指将硅源化合物在高温下分解,形成气体并在气相条件下沉积成固体二氧化硅薄膜的过程。它具有以下几个主要的用途和合成方法:

用途:
薄膜技术:气相二氧化硅可以通过化学气相沉积(CVD)方法制备薄膜,用于制造光学透明膜、隔热薄膜、防腐涂层等。
电子工业:它可用于制作高精度的绝缘体材料,如绝缘层、绝缘柱等。
微电子器件制造:气相二氧化硅可以作为材料用于半导体器件的制造,如制造晶体管、电容、太阳能电池等。

合成方法:
化学气相沉积(CVD):通过在反应室中将硅源化合物(如硅烷、二硅甲烷等)与氧气或氧化剂反应,生成二氧化硅气体。然后将气体沉积在基底表面上,形成固体二氧化硅薄膜。
热分解法:将含有硅的化合物(如硅酮)加热至高温,使其分解产生二氧化硅气体,然后使用合适的方法将气体沉积在基底上。

这些方法能够生产高质量的气相二氧化硅薄膜,具有广泛的应用前景。
最后更新:2024-04-09 01:59:50
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