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摘要 根据你的问题，我的回答是： 全氟丁二烯(C4F6，六氟丁二烯，六氟-1,3-丁二烯)作为一种温室效应GWP极低，绿色环保的高效干蚀刻气体，用于半导体产品的等离子介质刻蚀，具有更快刻蚀速率、更高选择性和更高精确性，更适合于高深宽比的蚀刻工艺。 全氟丁二烯(C4F6)是一种无色无味且不溶于水的气体，沸点为5.9℃。 全氟丁二烯是一种含有六个氟原子和两个碳碳双键的共轭烯烃，作为一种优异的蚀刻气体，由于其独特的F/C比，与传统使用的全氟饱和氟碳类蚀刻气体相比，全氟丁二烯具有更高的蚀刻选择性、精确性和纵横比，可以蚀刻小于100nm 甚至更窄的电子线路。 此外，C4F6比C4F8具有更高的对光阻和氮化硅选择比，在使用时可以提高蚀刻的稳定性，提高蚀刻速率和均匀度，从而提高产品优良率。 咨询记录 · 回答于2021-12-08 C4F6是什么气体 全氟丁二烯 根据你的问题，我的回答是：全氟丁二烯(C4F6，六氟丁二烯，六氟-1,3-丁二烯)作为一种温室效应GWP极低，绿色环保的高效干蚀刻气体，用于半导体产品的等离子介质刻蚀，具有更快刻蚀速率、更高选择性和更高精确性，更适合于高深宽比的蚀刻工艺。全氟丁二烯(C4F6)是一种无色无味且不溶于水的气体，沸点为5.9℃。 全氟丁二烯是一种含有六个氟原子和两个碳碳双键的共轭烯烃，作为一种优异的蚀刻气体，由于其独特的F/C比，与传统使用的全氟饱和氟碳类蚀刻气体相比，全氟丁二烯具有更高的蚀刻选择性、精确性和纵横比，可以蚀刻小于100nm 甚至更窄的电子线路。 此外，C4F6比C4F8具有更高的对光阻和氮化硅选择比，在使用时可以提高蚀刻的稳定性，提高蚀刻速率和均匀度，从而提高产品优良率。 这是我的建议，希望能帮到你！如果满意的话，可以采纳。希望得5星赞哦……谢谢！！ 祝你生活愉快！！！
