请回答下列问题: （1）制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷还原法是当前制备高纯硅的主要方法...

（1）①Si+3HCl

②↑ 发生爆炸

（2）BC

（3）有白色胶状沉淀生成,反应原理为 Na2SiO3 + 2HNO3 = H2SiO3↓+ 2NaNO3

试题分析：（1）①根据原子守恒即质量守恒可以写出SiHCl3与H2反应的化学方程式。

②SiHCl3和H2O剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质，分析它们化合价的变化可知， ，而Cl的化合价未发生变化，因此另一种元素即H元素的化合价必定降低，即另一种物质是H2。

（2）SiC和Si3N4均为原子晶体，熔点高，性质稳定，A、B正确。光导纤维的材料为SiO2，C正确。玻璃是一种玻璃态物质，无固定的熔点。盐酸不能与硅反应，而HCl在573 K以上的温度下可与硅发生反应。因此D、E都不正确。

（3）有白色胶状沉淀生成,HNO3的酸性大于硅酸，所以发生反应：Na2SiO3 + 2HNO3 = H2SiO3↓+ 2NaNO3。