六甲基二硅氮烷与水或醇反应原理

甲派庆基二硅氮烷与水尘老握或醇反应被称为HMDS，实际上就是水解反应。
主要用在集成电路的制造中，增加硅片和光刻胶之间的附着力。和硅表面的二氧化硅反应，除去含者二氧化硅和水反应的羟基，使其变为疏水性，而光刻胶是疏水的，从而增加了附着力。