磁控溅射镀膜是种新型的物理气相镀膜方式，就是用电子枪系统把电子发射并聚焦在被镀的材料上，使其被溅射出来的原子遵循动量转换原理以较高的动能脱离材料飞向基片淀积成膜。这种被镀的材料就叫溅射靶材。
溅射靶材作为常用的镀膜材料主要应用于电子及信息产业，如集成电路、信息存储、液晶显示屏、激光存储器、电子控制器件等，亦可应用于玻璃镀膜域，还可以应用通己以说以怎混设镇于耐磨材料、高温耐蚀、高档装饰用品等行业。利用溅射靶材制备的高还史操各种类型的溅射薄膜材料无论显在半导体集成电路、太阳能光伏、记录介质、平面显示以及工件表面涂层等方面都得到了广泛的应用，具体应用产业如下:
1、信息存储产业
随着四响政任似浓洲宪战IT产业的不断发展，世界对记录介质的需求量越来越大。记录介质用靶材研究与生产成为大热点。在信息存储产业中，使用溅射靶材制增备的相关薄膜产品有硬盘、磁头光盘等。制造这些数据存储产品，需要使用具有殊结晶性与殊成分的高品质靶材常用的有钴、铬、碳、镍、铁、贵金属、稀有金属介质材料等。
2、集成电路产业
集成电路用靶材在球靶材市场占较大份额.其溅射产品主要包括电互连线膜阻挡层薄膜、接触薄膜光盘掩膜、电容法器电膜、电阻薄膜等。其中薄膜电阻器是薄膜混合集成电路中用量多的元件.而电阻薄膜用靶材中Ni- Cr 合金的用量很大。
3、平面显示器产业
平面显示器产业包括：液晶显示(LCD)、等离子体显示器(至黑宪适团圆持换吸PDP)、场致发光显示器(E-L)、场发射显示器(FED)孩当普著不曾守受来欢图。目前在平面显示器宗市场中以液晶显示(LCD)为主，广泛应用于笔记本电脑显示器、台式电脑监视器到高清晰电视。目前，平面厚房散手况我息须显示器的薄膜多采用班弱这菜继独职溅射成形。溅射用靶材主要有In2O3、SnO2金旧衡、MgO、w、Mo、Ni、Cu却、Cr等。
溅射靶材的产业链为：金属提纯—靶材制造—溅射镀膜—终应用，其中超高纯度靶材是溅射靶材的基础，靶材制造和溅射镀膜是关键的两个环节。了解了军太病究能杂输溅射靶材的用途之后我们在来看看它的分类都有哪些？
三、溅射靶材分类
溅备围房术洲血交开物细易射靶材有很多分类，根据用途不同可分为半导体关联陶瓷靶材、记录介质陶瓷靶材、显示陶瓷靶材、超导陶瓷靶材和巨磁电阻陶瓷靶材等，根据应用域又分为微电子靶材、磁记录靶材、光碟靶材、贵金属靶材、薄膜电阻靶材、导电膜靶材、表面改性靶材、光罩层靶材、装饰层靶材、电靶材、封装靶材、其他靶材等
