单晶硅是信态知息产业中重要的基础材料。通常来自用炭在高温下还原二氧化硅制得粗硅(含铁、铝、硼、磷等杂质)，粗硅与氯气反应生成四氯化硅（反应温度450～500℃），四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅。以下是实验室制备预须离承四氯化硅的装置示意图。相关信息：①四氯化硅遇水极易水解；②SiCl4沸点为57.7℃，熔点为

试题难度：难度：中档 试题类型：实验题 试题内容：单晶硅是信息产业中重要的基础材料。通常用炭在高温下还原二氧化硅制得粗硅(含铁、铝、硼、磷等杂质)，粗硅与氯气反应生成四氯化硅（反应温度450～500℃），四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅。以下是实验室制备四氯化硅的装置示意图。相关信息：①四氯化硅遇水极易水解；②SiCl4沸点为57.7℃，熔点为－70.0℃。请回答：（1）写出装置A中发生反应的离子方程式 。（2）装置C中的试剂是 ；装置F的作用是 ；装置E中的h瓶需要冷却的理由是 。（3）装置E中h瓶收集到的粗产物可通过精馏（类似多次蒸馏）得到高纯度四氯化硅，精馏后的残留物中含有铁元素，为了分析残留物中铁元素的含量，先将残留物预处理，使铁元素还原成Fe2＋,再用KMnO4标准溶液在酸性条件下进行氧化还原滴定。①反应的离子方程式： 。②滴定前是否要滴加指示剂？ （填“是”或“否”），请说明理由 。③滴定前检验Fe3＋是否被完全还原的实验操作是 。