在陶瓷基板（Al₂O₃、AlN、SiC等）的化学机械抛光CMP工艺中，无蜡吸附垫/真空吸附垫Template凭借其高精度、无污染的特性，成为替代传统蜡粘附工艺的理想选择。吉致电子为您解析Template这一关键耗材的技术优势及选型要点。

一、为什么选择无蜡吸附垫？

1. 杜绝污染，提升良率

传统蜡粘附会残留有机物，导致陶瓷基板后续工艺（如金属化）失效。无蜡吸附垫通过真空吸附或微纹理固定，避免污染，特别适合高频/高功率电子器件等严苛应用场景。

2. 均匀抛光，降低缺陷

聚氨酯（PU）材质的弹性层可自适应基板形貌，配合多孔结构设计，确保压力分布均匀，减少划痕（Ra<0.1μm）和边缘塌陷。

3. 兼容自动化生产

无需蜡加热/冷却步骤，直接适配主流CMP设备（如Applied Materials、Ebara），提升生产效率20%以上。

二、无蜡吸附垫的典型应用场景

1. 功率电子：氮化铝（AlN）基板CMP，满足高导热需求。

2. 射频器件：氧化铝基板表面精抛，粗糙度≤0.05μm。

3. 半导体封装：碳化物（SiC）晶圆的减薄与抛光。

三、真空吸附垫Template选型与服务支持

吉致电子提供全流程技术适配：

1. 免费试样：匹配您的陶瓷基板材料与设备型号。

2. 参数优化：推荐抛光压力、转速等工艺窗口。

3. 售后监测：垫片寿命预警与更换建议。

作为高端电子工艺耗材领域的创新者，吉致电子始终致力于为陶瓷基板CMP工艺提供可靠解决方案，可提供如下增值服务：

①免费制定抛光工艺优化方案

②耗材生命周期管理系统及客户使用情况跟踪

③CMP耗材使用方法技术培训与指导

吉致电子期待与您携手，共同推动电子材料加工技术的进步！

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