紫外光臭氧清洗系统


THEMIS深度紫外臭氧清洗与反应系统，是一部应用深度紫外辐射（主要光波是184.9nm及253.7nm）达到表面原子级洁净以及对物件产生光清洗、光化学反应、光改质等效应的科学设备，由中科院与芬兰资深专家合作设计，重要部件的制造以及调校由航天部高级工程师亲自完成。
产品参数介绍：

型号	UVO-4		UVO-8
UV光波	253.7nm和184.9nm
清洗面积	12cm×12cm（4.5inch）		20cm×20cm（8inch）
光照强度	最高达50mW/cm2，实时显示
时间设置	0-9999s任意设置，实时数字显示
温度监视	精度0.1℃，实时数字显示，可平滑控制
物台调高	范围：0mm～35mm，精度：1mm
灯管材质	固态金属双波汞灯
灯管功率	125W	250W
灯管形状	格栅式灯管
灯管寿命	10000 小时
整机尺寸	550mm宽×310mm高×670mm长
警示保护功能	有
臭氧排风系统	有
电源参数	220V/AC/50Hz
整机功率	150W		280W
整机重量	25KG
应用领域	ITO玻璃、光学玻璃、铬板、掩膜板、抛光石英晶体、硅晶片和带有氧化膜的金属等进行精密清洗处理，液晶显示器件、半导体硅晶片、集成电路、高精度印制电路板、光学器件、石英晶体、密封技术、带氧化膜的金属材料等有机物去除，有机性污垢、人体皮脂、化妆品油脂、树脂添加剂及聚酰亚胺、石蜡、松香、润滑油、残余的光刻胶等。还能对特定材料进行表面改性，增加浸润性。

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