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实验室制取高纯硅

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实验室如何制取纯硅
高温下，粗硅与纯净的氯气反应，生成四氯化硅，再用氢气还原四氯化硅得到高纯硅。某实验小组再实验室制备
高温下，粗硅与纯净的氯气反应，生成四氯化硅，再用氢气还原四氯化硅得到高纯硅。某实验小组再实验室制备
（1来自6分）单晶硅是信息产业中重要的基础材料。通常在高温下还原二氧化硅制得粗硅(含铁、铝、硼、磷等杂质)，粗硅与氯气反应生成四氯化硅（反应温度450~500 ℃），四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅。以下是实验室制备四氯化硅的装置示意图。相关信息如下：a．四氯化硅遇水极易水解；b．硼、铝、铁、磷在训都故高
单晶硅是信息产业中重要的基础材料。通六建发夫常用碳在高温下还原二氧化硅来自制得粗硅（含铁、铝、硼保、磷等杂质），粗硅与氯气反应生成四氯化硅（反应温度450 一500℃），四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅。以下是实验室制备四氯化硅的装置示意图。相关信息如下：a．四氯化硅遇水极易水解；b．硼、铝、铁、磷在高温下
单晶硅是信态知息产业中重要的基础材料。通常来自用炭在高温下还原二氧化硅制得粗硅(含铁、铝、硼、磷等杂质)，粗硅与氯气反应生成四氯化硅（反应温度450～500℃），四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅。以下是实验室制备预须离承四氯化硅的装置示意图。相关信息：①四氯化硅遇水极易水解；②SiCl4沸点为57.7℃，熔点为
单晶硅是信息产业中重要的基础材料。通常用碳在高温下还原二氧化硅制得粗硅（含铁、铝、硫、磷等杂质），粗硅与氯气反应生成四氯化硅（反应温度450-500°C），四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅。以下是实验室制备四氯化硅的装置示意图。相关信息如下：a.四氯化硅遇水极易水解；b.硼、铝、铁、磷在高温下均
单晶硅是信息产业中重要的基础材料。通常用炭在高温下还原二氧化硅制得粗硅(含铁、铝、硼、磷等杂质)，粗硅与氯气反应生成四氯化硅（反应温度450~500来自℃），四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅。以下是实验室制有又备四氯化硅的装置示意图。相关信息如下：①四氯化硅遇水极易水解； ②硼、铝、铁于呼占待升、磷在高温下均
单晶硅是信息产业中重要的基础材料。通常用碳在高温下还原二氧化硅制得粗硅（含铁、铝、硼、磷等杂质），粗硅与氯气反应生成四氯化硅（反应温度450 一冲握纸号的兰升笑烧计战500℃），四氯化硅京怎承怎它安压真义经提纯后用氢气还原可得高纯硅。以下是实验室制备四氯化硅的装置示意图。相关信息如下：a．四氯化硅遇水来自极易水解；b．硼、铝、铁、磷在高温下
)单晶硅是信息产业中重要的基础材来自料。工业上可用焦炭与二氧化硅的混合物在高温下与氯气反应生成SiCl4和CO，SiCl4经提纯后用氢气还原得高纯硅。以下是实验室制室验后乙服备SiCl4的装置示意图。实啊改波规顺斤显倍验过程中，石英砂中的铁、铝等杂质也能转化为相应氯化物，SiCl4、AlCl3、FeCl3遇水均易离合血张水解，有关物质的

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