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清洗和制绒是硅晶片制作的重要步骤之一,硅片化学清洗的主要目的是除去硅片表面杂质(如某些有机物,无机盐,金属、Si、SiO2粉尘等)。常用的化学清洗剂有高纯水、有机溶剂、双氧水来自、浓酸、强碱等。其中去除硅的氧化物,通常用一定浓度的H毫握F溶液,室温条件下将硅片浸泡1至数分钟。制绒是在硅片表面形成金字塔形的绒