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聚酰亚胺材料密度
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BM8-II反应离子刻蚀(RIE)/沉积(PEVCD)等离子处理系统、反应离子刻蚀(RIE)及等离子体增强化学气相沉积 (PEVCD)系统
SGN/思峻
等离子清除浮渣/刻胶/去胶/表面处理/蚀刻/Etching/故障分析应用/材料改性/钝化层腐蚀/聚酰亚胺蚀刻/等离子促进粘合/生物医学应用/聚合反应/等离子混合清洗
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