ccp刻蚀全称

CCPplasma蚀刻机器。ccp刻蚀具备在介质刻蚀上闷搭闭的高选择比、高刻蚀速率等优势，适用于介质类氧化硅、氮化硅、氮氧化硅等膜蚂裂层材料，名称为CCPplasma蚀刻机器，可为客户提供包括逻辑器件、功率器件、化合物半导枝衫体等在内的多种特色工艺。