75190-82-8 (顺-10-碳烯酸甲酯,(10Z)-10-Heptadecenoic Acid Methyl Ester)

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结构式：

顺-10-碳烯酸甲酯MOL文件

CAS号：

75190-82-8

中文名称：

顺-10-碳烯酸甲酯

英文名称：

(10Z)-10-Heptadecenoic Acid Methyl Ester

分子式：

C₁₈H₃₄O₂

分子量：

282.461366176605

顺-10-碳烯酸甲酯(75190-82-8)名称与标识符

名称

中文别名：

10顺-十七碳一烯酸甲酯;十七碳烯酸甲酯(C17:1,顺-10);十七碳烯酸甲酯(顺-10)(C17:1)标准品;顺-10-十七碳烯酸;顺-10-碳烯酸甲酯;顺-10-十七碳烯酸甲酯;顺式-10-十七碳烯酸甲酯;

英文别名：

10-Heptadecenoic acid,methyl ester, (Z)- (9CI);Cis-10-Heptadecenoic Acid Methyl Ester;(10Z)-10-Heptadecenoic Acid Methyl Ester;METHYL 10-CIS-HEPTADECENOATE;Methyl cis-10-heptadecenoate;methyl heptadec-10-enoate;methyl (10Z)-heptadec-10-enoate;Methyl 10-cis-heptadecenoate1000µg;cis-10-Heptadecanoic acid methyl ester;CHEBI:143580;MFCD00133176;methyl (Z)-heptadec-10-enoate;AKOS027382325;10(Z)-Heptadecenoic acid methyl ester;AS-59625;Methyl cis-10-heptadecenoate, >=99% (GC), liquid;cis-10-Heptadecenoic acid, methyl ester;JNSUZRHLHDQGPN-HJWRWDBZSA-N;75190-82-8;cis-10-Heptadecenoic acid-methyl ester;10-Heptadecenoic acid, methyl ester, (Z)- (9CI); Methyl cis-10-heptadecenoate; cis-10-Heptadecanoic acid methyl ester; cis-10-Heptadecenoic acid methyl ester;10-Heptadecenoicacid,methyl ester;DB-220272;1ST1834;

标识符

MDL：

MFCD00133176

InChIKey：

JNSUZRHLHDQGPN-HJWRWDBZSA-N

Inchi：

1S/C18H34O2/c1-3-4-5-6-7-8-9-10-11-12-13-14-15-16-17-18(19)20-2/h8-9H,3-7,10-17H2,1-2H3/b9-8-

SMILES：

O(C)C(CCCCCCCC/C=C\CCCCCC)=O

顺-10-碳烯酸甲酯(75190-82-8)物化性质

实验特性

PSA : 26.3
折射率 : 1.453
沸点 : 353.1±11.0 ºC (760 Torr),
闪点 : 91.1±17.6 ºC,
溶解度 : Insuluble (2.1E-3 g/L) (25 ºC),
密度 : 0.875±0.06 g/cm3 (20 ºC 760 Torr),

计算特性

精确分子量 : 282.25602
氢键供体数量 : 0
氢键受体数量 : 2
可旋转化学键数量 : 15
同位素质量 : 282.255880323g/mol
重原子数量 : 20
复杂度 : 234
同位素原子数量 : 0
确定原子立构中心数量 : 0
不确定原子立构中心数量 : 0
确定化学键立构中心数量 : 0
不确定化学键立构中心数量 : 1
共价键单元数量 : 1
疏水参数计算参考值（XlogP） : 7.1
拓扑分子极性表面积 : 26.3Å²

顺-10-碳烯酸甲酯(75190-82-8)安全信息

WGK Germany： 3
危险品运输编号： NONH for all modes of transport
储存条件： −20°C

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顺-10-碳烯酸甲酯(75190-82-8)合成路线

合成路线：1 步

反应条件：

1.1 Catalysts: Water ; 4 h, 22 bar, 175 °C

参考文献：

In situ biodiesel production from wet Chlorella vulgaris under subcritical condition

Tsigie, Yeshitila Asteraye; Huynh, Lien Huong; Ismadji, Suryadi; Engida, Adam Mekonnen; Ju, Yi-Hsu, Chemical Engineering Journal (Amsterdam, 2012, 213, 104-108