920-68-3 (七甲基二硅氮烷,N,N-Bis(trimethylsilyl)methylamine)

CAS号:
920-68-3
中文名称:
七甲基二硅氮烷
英文名称:
N,N-Bis(trimethylsilyl)methylamine
安全信息:
分子式:
C7H21NSi2
分子量:
175.419343709946
简介:
七甲基二硅氮烷(N,N-Bis(trimethylsilyl)methanamine),无色透明液体,不溶于水,溶于有机溶剂,遇酸结合成盐类化合物。作为基团保护剂广泛应用于农药、兽药等医药生产过程中。

七甲基二硅氮烷(920-68-3)名称与标识符

名称

中文别名:
七甲基二硅氮烷;1,1,1-三甲基-N-[(三甲基硅基)甲基]硅烷胺;N,N-二(三甲硅基)甲胺;七甲基二硅胺;七甲基二甲硅基胺;NN-(三甲基硅烷基)甲胺;Heptamethyldisilazane ; 七甲基二硅氮烷;二甲基半胱氨盐酸盐;六甲基二硅氧烷;七甲基二硅烷基胺;七甲基二硅氮烷 七甲基二甲硅基胺;
英文别名:
N,1,1,1-Tetramethyl-N-(trimethylsilyl)silanamine;BIS(TRIMETHYLSILYL)METHYLAMINE;HEPTAMETHYLDISILAZANE;N,N-BIS(TRIMETHYLSILYL)METHYLAMINE;n,1,1,1-tetramethyl-n-(trimethylsilyl)-silanamin;N-1,1,1-tetramethyl-N-(trimethylsilyl)-Silanamine;N,1,1,1-tetramethyl-N-(trimethylsilyl)silylamine;1,1,1,2,3,3,3-Heptamethyldisilazane;Silanamine, N,1,1,1-tetramethyl-N-(trimethylsilyl)-;N,N-Bis(trimethylsilyl)methanamine;(Methylimino)bis(trimethylsilane);Heptamethylpropanedisilazane;Methylbis(trimethylsilyl)amine;Disilazane, heptamethyl- (6CI, 7CI);N,1,1,1-Tetramethyl-N-(trimethylsilyl)silanamine (ACI);Di(trimethylsilyl)methylamine;EN300-7645440;FS-5058;N-[Bis(trimethylsilyl)methyl]amine;J-802217;1,1-bis(trimethylsilyl)methylamine;Q17310956;SCHEMBL234175;37074-17-2;N-Tetramethyl-N-(trimethylsilyl)silanamine #;DB-057287;DTXSID00862468;N,N-Bis(trimethylsilyl)methylamine, for GC derivatization, >=97.0% (GC);Silanamine, N-methyl-N-silyl-;bis-(Trimethylsilyl)methylamine;N,1,1,1-Tetramethyl-n-(trmethylslyl)slanamne;H0954;Heptamethyl disilazane;J-523194;Methylamine, 2TMS derivative;D90981;NS00042020;S09250;EINECS 213-061-5;AKOS015840163;MFCD00008262;1,1-Bis(trimethylsilyl)methanamine;920-68-3;

标识符

MDL:
MFCD00008262
InChIKey:
ZSMNRKGGHXLZEC-UHFFFAOYSA-N
Inchi:
1S/C7H21NSi2/c1-8(9(2,3)4)10(5,6)7/h1-7H3
SMILES:
N([Si](C)(C)C)([Si](C)(C)C)C

七甲基二硅氮烷(920-68-3)物化性质

实验特性

  • 折射率 : n20/D 1.421(lit.)
  • 水溶性 : 分解
  • 沸点 : 147°C(lit.)
  • 闪点 : 华氏:82.4 °F
    摄氏:28 °C
  • 颜色与性状 : 无色液体
  • 溶解性 : 不溶于水,溶于有机溶剂
  • 敏感性 : Moisture Sensitive
  • 密度 : 0.799 g/mL at 20 °C(lit.)
  • 蒸汽压 : 6.216mmHg at 25°C

计算特性

  • 精确分子量 : 175.12125274g/mol
  • 氢键供体数量 : 0
  • 氢键受体数量 : 1
  • 可旋转化学键数量 : 2
  • 同位素质量 : 175.12125274g/mol
  • 重原子数量 : 10
  • 复杂度 : 95.8
  • 同位素原子数量 : 0
  • 确定原子立构中心数量 : 0
  • 不确定原子立构中心数量 : 0
  • 确定化学键立构中心数量 : 0
  • 不确定化学键立构中心数量 : 0
  • 共价键单元数量 : 1
  • 疏水参数计算参考值(XlogP) : 无
  • 互变异构体数量 : 无
  • 表面电荷 : 0
  • 拓扑分子极性表面积 : 3.2

七甲基二硅氮烷(920-68-3)安全信息

七甲基二硅氮烷(920-68-3)国际标准相关数据

EINECS:
213-061-5

七甲基二硅氮烷(920-68-3)海关数据

海关编码:
29319090

七甲基二硅氮烷(920-68-3)生产方法和用途

用途:

作为基团保护剂广泛应用于农药、兽药等医药生产过程中。

生产方法:

可采用三甲基氯硅烷与一甲胺合成法合成七甲基二硅氮烷。

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七甲基二硅氮烷(920-68-3)合成路线

合成路线:1 步
参考文献:
Sodium hexamethyldisilazide
Watson, Brett T.; Lebel, Helene, e-EROS Encyclopedia of Reagents for Organic Synthesis, 2005, 1, 1-10
合成路线:1 步
反应条件:
参考文献:
Silicon-containing thin film deposition composition and its uses
, Korea, , ,
合成路线:1 步
参考文献:
Synthesis of mono- or disilylated derivatives at the functional carbon
Ekouya, Alphonse; Calas, Raymond; Dunogues, Jacques; Biran, Claude; Duffaut, Norbert, Journal of Organometallic Chemistry, 1979, 177(1), 137-44
合成路线:1 步
反应条件:
参考文献:
Process for preparation of heptamethyl disilazane
, China, , ,
合成路线:1 步
参考文献:
Product subclass 5: sodium-nitrogen compounds
Jonczyk, A.; Kowalkowska, A., Science of Synthesis, 2006, 8, 1141-1195
合成路线:1 步
反应条件:
参考文献:
Efficient Synthesis of 1,2,4-Dithiazolidine-3,5-diones [Dithiasuccinoyl-Amines] from Bis(chlorocarbonyl)disulfane Plus Bis(trimethylsilyl)amines
Barany, Michael J.; Hammer, Robert P.; Merrifield, R. B.; Barany, George, Journal of the American Chemical Society, 2005, 127(2), 508-509
合成路线:1 步
反应条件:
参考文献:
Simple synthesis of primary amines via their N,N-bis(trimethylsilyl) derivatives
Bestmann, Hans Juergen; Woelfel, Gerhard, Chemische Berichte, 1984, 117(3), 1250-4
合成路线:1 步
参考文献:
Syntheses of 4''-epi-Amino-4''-deoxyavermectins B1
Cvetovich, Raymond J.; Kelly, Dennis H.; DiMichele, Lisa M.; Shuman, Richard F.; Grabowski, Edward J. J., Journal of Organic Chemistry, 1994, 59(25), 7704-8
合成路线:1 步
参考文献:
Reactions of (trifluoromethylimino)(trifluoromethyl)sulfur trifluoride with nucleophiles and the preparation of CF3SF4N(F)Rf (Rf = trifluoromethyl, pentafluoroethyl)
Yu, Shin-Liang; Shreeve, Jean'ne M., Journal of Fluorine Chemistry, 1976, 7(1-3), 85-94
合成路线:1 步
反应条件:
参考文献:
Dimethylaluminum Amide
Weinreb, Steven M.; Anderson, Glen T.; Nylund, Christine S., e-EROS Encyclopedia of Reagents for Organic Synthesis, 2001, ,
合成路线:1 步
反应条件:
参考文献:
Trimethylsilylation of compounds with a nitrogen-chlorine bond
Shaposhnikov, S. I.; Koidan, G. N.; Marchenko, A. P.; Pinchuk, A. M., Zhurnal Obshchei Khimii, 1985, 55(5), 1080-4

七甲基二硅氮烷(920-68-3)相关文献

七甲基二硅氮烷(920-68-3)参考资料

Reaxys RN:
1737290
Beilstein:
4(3)1861
PubChem CID: