四（二甲基氨基）铪

铪类氨基金属化合物主要用作CVD和ALD的前驱体材料，用于沉积铪的前驱物，制备铪氧化物薄膜;
可作为COMS和下一代DRAM的高k绝缘材料，广泛应用于45nm下直至7nm技术等先进CMOS集成电路技术中；
应用于新型阻变/忆阻器件(RRAM)研究中，展现出良好的微缩特性，还可在10nm尺度下保持良好的阻变特性；
在铁电存储器件(FeRAM)、铁电场效应晶体管(FeFET)、铁电负电容晶体管(NC-FET)、铁电隧道结等新功能器件制造方面同样具有良好的微缩特性，能够为类脑型神经形态计算等变革性技术研究与发展提供新的途径；

替代二氧化硅，作为金属-氧化物-半导体场效应晶体管(MOSFET)的栅极。

中文名：四(二甲基氨基)铪(IV)
外文名：Tetrakis (dimethylamino) hafnium  (IV)
化学式：Hf[N(CH3)2]4
分子量：354.796
CAS号：19782-68-4
熔点：26-29 °C
沸点：85 °C

闪点：109 °F
密度：1.098 g/mL at 25 °C
外观：白色至灰白色晶体
存储条件：无水无氧